近紅外光的微影曝光技術(shù)。近紅外線光的透過性高，具有即使是厚膜光阻.將新技術(shù)應(yīng)用於黑色光阻，並展開在次世代顯示器用途的應(yīng)用開發(fā)。利用波長比可見光更長之近紅外光(700～1,000 nm)微影曝光技術(shù).對近紅外光有反應(yīng)的敏化染料，成功地實現(xiàn)了近紅外線曝光。敏化染料吸收了近紅外光的能量，被激發(fā)的能量傳導至光反應(yīng)物質(zhì)，進而產(chǎn)生了近紅外光的光反應(yīng).近紅外光的適用目 標設(shè)定在於膜厚2μm以上的曝光。